こんにちは。S&Tの上村です。2020年7月3日(金)から10月11日(日)まで、ヨコハマトリエンナーレ2020が開催される予定ですが、4月13日に展覧会概要と参加アーティストが発表されました。
今回は、長年にわたって世界で活躍するインドの3人組アーティスト集団「ラクス・メディア・コレクティヴ」がアーティスティック・ディレクターを務めます。日本で初めて作品を発表するアーティストはもちろん、本展のために制作される新作やプロジェクトが多数集結し、刺激的な最先端の現代アートを一度に楽しめる機会となっているようです。
今回のタイトル“アフターグロウ”──残光とは、わたしたちが日々知らずのうちに触れている、宇宙誕生の瞬間に放たれた光の“破片”のことなんだそうです。
『太古の昔に生まれたエネルギーが創造の糧となって、今に宿る。それと同じように「ヨコハマトリエンナーレ2020」は、多様なレベルでの破壊/毒、そして回復/治癒のなかで人間の営みが行われてきたと捉え、“毒”を排除するのではなく、いかにしてそれと共存するのかという問いを共有し、考えてゆく展覧会となる。』という意味も込められているそうです。今の状況にぴったりな感じがします。
「独学」「発光」「友情」「ケア」「毒性」といった5つのソースから導き出されるキーワードに応答する、65組のアーティストによる作品が展示されるそうです。
約半数が日本を含むアジア圏から、約4分の1が中東、中南米、アフリカから出展しており、非欧米圏のアーティストが多数出展しています。また、レボハング・ハンイェなど、約半数が1980年代以降に生まれた若手作家である点も特徴的です。私も注目している国々なのでとても楽しみです。\(^o^)/
ただし、このコロナの状況でどうなることか一抹の不安も残りますが、私としてはそんなものに負けずぜひ開催して欲しいと思っています。
いずれにしろ現時点では開催予定なのでしっかり予習しておきたいと思います。もし、ダメになってもきっとオンライン等で何かしらあると思いますので私も今から楽しみにしています。\(^o^)/
https://www.yokohamatriennale.jp/2020/news/20200413/